ものづくり現場の技術支援機関

E100:スパッタリング装置

●機器名
スパッタリング装置
e100
keirin
この機器は競輪の補助を受けて整備したものです。
●概 要
薄膜(多層)を作製する装置です。
●型 式
(株)アルバック製 isp-2000-LC3
●仕 様
スパッタ方式:デポジションアップ、静止対向型マグネトロンスパッタ
基板サイズ:φ2インチ×1枚
ターゲットサイズ:φ2インチ×3枚
基板加熱:最大800℃ スパッタ電源:DC500W×1台
●活用事例金属薄膜の作製
形状記憶等合金薄膜の形成 など
●担 当電子・情報担当

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